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其中，De：mmon工艺于21年由Purac公司和Hannover大学联合开发，在德国Haittingen污水处理厂首先得到应用。工艺由3个MBBR反应池和1个脱气池组成，3个反应池可以根据需要以串联或者并联的方式连接，MBBR的填充率为4%～5%。反应池的每个分区都设置间歇曝气，曝气段和非曝气段的时间分别为2～5min和1～2min，具体时间通过监测在线电导率实施调整。工艺对TN的去除率达7%～8%，实际运行TN负荷为18kg/d。